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成都结晶抛光粉销售,客户满意

2020-08-05 05:27:02 424次浏览

价 格:面议

抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是可以在整个硅圆晶片上全面平坦化的工艺技术。

乳化蜡用作皮革光亮剂、消光剂和手感剂等 人们对皮革制品的外观有两大类要求,一是增加皮革光泽, 如打光革、漆革、抛光效应革等;另一种是不要光泽感,使皮革呈现感、自然美。前者需要用到光亮剂,后者需要用到消光剂。选用不同的蜡乳液用于皮革顶层涂饰时,有的可增加皮革光泽感或光亮度,有的可产生消光作用呈现风韵。产生光亮作用的蜡乳液粒径要求很小,组成比较单一,在皮革表层形成一层均相且连续的蜡的薄膜,微观上薄膜很平滑,对光波产生较强烈的反射作用,从而具有光泽感;产生消光作用的蜡乳液粒径较大,在皮革表面形成一种非均相且微观上不平整的表面,对光波产生强烈的散射作用,散射作用是消光剂产生消光作用的根本原因。

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