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成都固化剂批发,多年经验值得信赖

2020-08-13 01:42:03 528次浏览

价 格:面议

氧化铝和碳化硅抛光液 是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。 主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

氧化铈抛光液 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。 适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

蜡乳液可与加脂剂复配 在加脂剂中复配少量的乳化蜡改善和提高加脂剂的效果,通过试验证明,向皮革加脂剂中复配1% ~ 5%的蜡乳液,可提高加脂剂的填充性能,提高加脂剂在皮纤维中的渗透性能,增加皮革的防水性能,使皮革手感滑爽、柔软、丰满。

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