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稀土抛光粉生产工艺

2019-11-14 10:12:07    343次浏览

稀土抛光粉主要成份为二氧化铈(CeO2),其次分别为氧化镧(La2O3)、氧化镨(Pr2O3)、氧氟化镧(LaOF),此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。下面就说说稀土抛光粉的生产工艺。

一、*高铈系稀土抛光粉的生产

1.以稀土混合物分离后的氧化铈为原料,以物理化学方法加工成硬度大、粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。

2.其主要工艺过程为 : 原料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高铈稀土抛光粉产品。主要设备有 : 煅烧炉,水淬槽,分级器,过滤机,烘干箱。 主要指标 : 产品中w(REO)=0.99 ,w(CeO2)=0.99; 稀土回收率约0.95.该产品适用于高速抛光。这种高铈抛光粉很早代替了古典抛光的氧化铁粉(红粉)。

二、*中铈系稀土抛光粉的制备

1.用混合稀土氢氧化物(w(REO)=0.65 ,w(CeO2)≥0.48) 为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体( 沉淀剂) 使转化成 w(CeO2)=0.80 ~ 0.85 的中级铈系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:

原料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉淀 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 → 细磨筛分 → 中级铈系 稀土抛光粉产品。

2.主要设备有 : 氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。

3.主要指标 : 产品中 w(REO)=0.90, w(CeO2) =0.80 ~ 0.85 ; 稀土催化材料回收率约0.95 ; 平均粒度 0.4 微米 ~ 1.3微米 .该产品适用于高速抛光,比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。

三、*低铈系稀土抛光粉的制备

1.以少铕氯化稀土 (w(REO)≥0.45 ,w(CeO2)≥0.48) 为原料,以合成中间体( 沉淀剂) 进行复盐沉淀等处理,可制备低级铈系稀土抛光粉产品。

其主要工艺过程为 : 原料 → 溶解 → 复盐沉淀 → 过滤洗涤 → 高温煅烧 → 粉碎 → 细磨筛分 → 低级铈系稀土抛光粉产品。

2.主要设备有 : 溶解槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,粉碎机,细磨筛分机。

3.主要指标 : 产品中 w(REO)=0.85 ~ 0.90 , w(CeO2)=0.48 ~ 0.50; 稀土回收率约 0.95; 平均粒径 0.5微米~ 1.5微米 .

4.目前,国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量很多,约占总产量的0.90以上。

以上就是关于三种稀土抛光粉的生产工艺,知道这些后对我们以后的选择也有一定帮助,用户也能更好的挑选适合自己的产品。

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